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朱鸣 朱鸣

Delta

09 november

I_vddpa_off

关键字:
Low Yield
Field-Related
Test overkill
I_vddpa_off
Fixed Pin Leakage
Temperature sensitive
Nano-probing
Double Guard Ring
Reverse Bias Junction leak
Depletion Region touch STI corner/side wall
OD/NW/PW loop margin
FEM OVL matrix
Worse tool constrain
Optimization STR and Ramp
Multi-layer worse condition wafer
Test Key
Mask revise
X-Fab long term solution
future
win
28 juni

zz一首小诗

 
心底里烙上交大的名,便找不出承载那份爱的具体。爱交大,难道是爱那一泓浅浅的思源湖水?爱交大,难道是爱那一树淡淡的吉野樱花?不,都不是,不是爱香樟的落叶铺成地毯,不是爱湖心的小岛养了白鸭,不是爱思源湖夜晚璀璨的灯火,不是爱桥洞中意趣盎然的涂鸦,不是冬天的残雪,不是夏天的枇杷,不是秋天的月亮,也不是春天的花。就像当我说爱你的时候,我无法指出爱的是你的皓齿明眸或者黑发。
04 april

四月咯

转眼已经到了四月了,似乎上一篇文章也刚写没多久。
四月份,是一个从冬天瞬间转入夏天的月份。
这句话既可以描写上海的天气,也可以形容鄙公司的情况。
好像就在一瞬间,洁净厂房角落里的那个,门上挂着Wafer Start的小房间,回到了以前的忙碌。
而我,也仿佛在一瞬间,成为了十颗产品的product owner。当然,还有一颗产品的PE2,和我师傅一起决战T734次特快。
 
最近我一直都有在看《恶作剧之吻》,现在看是满老的片子拉。不过还挺有感觉的,不知怎么的,感觉很符合四月的气节。
但愿这不是一个恶作剧。
但愿这是一个恶作剧。
24 maart

工作250天

时间过得很快,从我来tsmc报道,到现在已经250天了。

 

当然,我还是一个新人。我觉得这个时候,很有冲动说一下我的心路历程。

 

刚来的时候,就是上课,学习。可能我大学里面知识背景比较好,感觉很顺畅。每一次上课总能得到新的东西,提出的问题也让讲师们眼前一亮。

 

上课之余,就是学着做FA。这是PE的看家本事,学的不慢,也渐渐开始做事了。慢慢的,我开始觉得FA怎么那么麻烦。Product owner怎么从来不来实验室做FA?好不容把FA做出来了,还被师傅一顿骂,因为report写得不够漂亮。

 

课上完了,FA也学得差不多了,马上要分配工作了。开始各路打听消息,我们一起的人当中,我的工作积极性不算最高,学历不算最漂亮,人更不漂亮,还每天都准时回家。可能三个月的试用期都过不去吧?

 

来到了PE-1之后,开始了漫长的日子。表面很光鲜,实际很低级。什么都不会,师傅让抓个数据,抓出来就会被师傅问:你为什么要抓这个数据?

 

师傅一次说了很多,只要一点点没有记住,就挂了。那时候有很多体力活,面对这海洋般的数据,已经数不清看花几次,手指麻掉几次了。

 

慢慢适应了这样的事情,发现了原来在枯燥的海洋中,还有一点好玩的东西,比如看着这颗产品的良率慢慢往上爬。老板满脸笑容跑过来说,客户把整个季度的订单都砍掉了。

 

沮丧的我,回到寝室,听到了裁员这两个字。6个月不到的新人,裁员的话公司不用付很多。说的就是我吧。

 

这个冬天,我耳边就环绕这两句话:“下礼拜客户下单”“这次又不下了”。而我们做的事情,却一点都没有减少。Low Yield一个接着一个。我师傅和我都不想做FA,因为所有的经验就告诉我们这颗产品做不出FA。没办法,只有做。做不到,就再做。“下礼拜客户下单”“这次又不下了”。。。。。。

 

春节这种大好日子,我们面临的是节后的大规模裁员,甚至关闭工厂。我们住的大学城宿舍都不租了。不仅吃不到有味道的早饭,还要提早到公司里面呼吸那令人窒息的气体。

 

年初四,我一个人来公司值班。整个5楼,应该是200人的,只在两个角落里面坐着两个相互不认识的陌生人,没有空调,没有日光灯。我总觉得我背后有一个人。。。

 

每个人的脾气都变得特别大。老板骂小兵变得更加不给面子,小兵更老板顶嘴也更加犀利。

 

现在春天来了,阴影还在盘旋,“下礼拜客户下单”“这次又不下了”,这两句话,我也听腻了。有人走了,没有人来。苦涩的笑容,无味的饭菜。还要持续多久,没有人知道。

 

 

不单是我,各位看客中间,压力比我大的,肯定更多。找个有人或者没人的地方发泄一下吧,你有多久没去KTV撕喉过了?你有多久没有踢过墙壁了?你有多久没流过眼泪了?你现在还笑得出来吗?如果不能,就哭吧。我的专业里,stress太重就会crack,快点release掉吧。

 

来和我分享你的郁闷吧,我知道你也很难。我也很难。就哭吧,哭完记得要笑。

15 maart

MOS晶体管栅极材料发展历史简介

不摆官子了,呵呵。
MOS的早期,确实是用金属作为栅极材料没错。发展过程中,除了考虑后续工艺的热处理对金属的危害之外,另外一个重要的、决定性的因素使得金属栅退出主流。
大家都知道MOS发展的历史上,相继出现过PMOS电路,NMOS电路和现在的CMOS电路。
为什么一开始只做PMOS呢?不是因为别的,是因为金属栅工艺,无法做出NMOS!
接下去说到功函数,大家都不想看了。简单地说,早期用金属做栅,NMOS在不加电压的时候就导通!造成NMOS无法实用在电路中。
罪魁祸首:功函数差,他的起源在于MOS结构中,M和S的材料不一样。
取而代之的Poly Gate(多晶硅栅),本质上和沟道材料同属于硅单质。解决了这个问题,使得我们可以做出理想的NMOS。
茶余饭后说一点,PMOS电路发展到NMOS电路,是因为同样的电性性能,NMOS比PMOS尺寸小。后来采用CMOS,道理大家学校都学过了。
扩展开去有两个话题:
1.金属和半导体接触,就会有功函数差的问题,自然接触就会形成一个二极管。那么从一个MOS的sourse和drain接出互连线中用到了金属和半导体接触。如何解决这个问题的呢?
2.现在Poly Gate制程中,PMOS和NMOS用的Poly,是一样的吗?^_^
至于Intel公司的金属栅技术,我也不懂,呵呵,希望以上内容对您有启发。
 
13 maart

Why we do not use Metal as the gate of a MOSFET?

各位看客,主要是电子科学技术专业背景的同志们,今天出道题目娱乐一下。
As title,
MOSFET 的全称是:金属-氧化物-硅 场效应晶体管。
那么好了,栅极材料理应是Metal吧?
然而Intel在2007年才开始使用金属栅技术。
之前我们为什么不用金属做Gate呢?
 
下期公布答案。
留言满5条公布下期。
哈哈!
 
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